Исследование плотности халькогенидных стеклообразных полупроводников систем As-S и As-Se в широком интервале температур

Синтез стеклообразных полупроводников AsXS1-X и AsXSe1-X, его закономерности, этапы. Устройство для определения плотности расплавов халькогенидных стекол. Зависимость плотности стекол и расплавов системы AsXS1-X и AsXSе1-X от температуры и состава.

Рубрика Химия
Вид курсовая работа
Язык русский
Дата добавления 24.02.2012
Размер файла 794,8 K

Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже

Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.

Размещено на http://www.allbest.ru/

Размещено на http://www.allbest.ru/

ИССЛЕДОВАНИЕ ПЛОТНОСТИ ХАЛЬКОГЕНИДНЫХ СТЕКЛООБРАЗНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ СИСТЕМ As-S И As-Se В ШИРОКОМ ИНТЕРВАЛЕ ТЕМПЕРАТУР

Введение

Стекла, содержащие серу, селен, теллур и другие элементы периодической системы, являются новым классом полупроводниковых веществ. Возрастающее практическое применение халькогенидных стекол в волоконной оптике и полупроводниковой технике обусловлено их высокой прозрачностью в инфракрасной областях спектра и высокой устойчивостью к агрессивным средам.

Для халькогенидных стекол характерно отсутствие дальнего геометрического порядка в расположении атомов, свойственного кристаллам, и наличие регулярного ближнего порядка, соответствующего ближнему порядку наиболее устойчивых кристаллических соединений.

Свойства халькогенидных стекол и их расплавов зависят от природы химической связи и состава, который характеризуется набором структурных единиц, образующих неупорядоченную полимерную сетку.

При исследовании халькогенидных стекол и их расплав одним из информативных методов является дилатометрия, успешно применяемая при изучении металлических и неметаллических, твердых и жидких систем. Дилатометрия позволяет установить связь между температурой, концентрацией и объемом. В связи со сказанным целью дипломной работы является изучение нового метода синтеза оптически чистых халькогенидных стекол, нового устройства для определения плотности расплавов химически активных веществ и дилатометрическое исследование сплавов систем As-S и As-Se в широком интервале температур.

1. Синтез стеклообразных полупроводниковых стекол AsXS1-X и AsXSe.

Для получения стекол AsXS1-X и AsXSe1-X кварцевый сосуд заполняли хлором и герметизировали. Хлор, мышьяк, серу или селен загружали в реакционную камеру, выполненную из кварцевого стекла в виде двух сообщающихся сосудов. Реакционную камеру вакуумировали, до давления 10-4-10-5 мм. рт. ст. и герметизировали. Затем сосуд с хлором вскрывали непосредственно в реакционной камере. На рис. 1 приведена схема устройства для получения оптически чистых стекол AsXS1-X и AsXSe1-X.

Реакционную камеру помещали в печь и нагревали до 6000С, обеспечивая градиент в камере Tmax=6000C, Tmin= комнатная температура. Образовавшийся AsCl3 и легколетучие примеси конденсировали во втором сосуде и отпаивали. Последующей закалкой расплавов получали стекла состава AsXS1-X и AsXSe1-X высокой прозрачности, практически не содержащее примесных полос поглощения в диапазоне 750-4000 см-1.

На рис. 2 представлен спектр пропускания стеклообразного As2S3, синтезированного описанным выше способом.

Использование данного способа позволяет также снизить температуру синтеза стекол AsXS1-X (X=0,10-0,45), AsXSe1-X (X=O - 0,60) с 8000С до 6000С.

Рис. 1. Устройство для получения стекол

AsXS1-X и AsXSe1-Х.

1 - камера с жидким хлором.

2 - место запайки кварцевой ампулы с хлором.

3-камера с As, S или Se.

4 - место запайки кварцевой камеры с As, S или Se.

5 - капилляр для вскрытия камеры 1 и конденсации AsCl3.

6 - Место отпайки камеры 1.

Рис. 2. Спектр пропускания стеклообразного As2S3.

а) Синтезированного из As, S и Cl;

б) Синтезированного из элементарных As и S.

2. Устройство для определения плотности расплавов халькогенидных стекол

Измерение плотности халькогенидных стеклообразных полупроводников проводилось на устройстве для определения плотности химически активных жидких и высоковязких материалов в широком интервале температур [1], схема которого представлена на рис. 3.

Рис. 3. Схема устройства для определения плотности расплавов халькогенидных стекол.

Устройство содержит весы 1, на коромысле 2 которых с помощью держателя 3 закреплен под углом б=25-650 к коромыслу весов сосуд 4, выполненный в виде прямой трубки. Сосуд заполнен исследуемым материалом 5 и помещен в нагревательное устройство 6. Для демпфирования весов и сохранения их чувствительности на стрелке 7 весов установлен подвижный противовес 8. Контроль чувствительности определяется с помощью шкалы 9 весов. Для определения плотности образца методом гидростатического взвешивания на плече 10 коромысла с помощью подвеса 11 закреплено тело 12.

Устройство работает следующим образом. После закрепления сосуда 4 с материалом 5 на коромысле 2 весов и компенсации веса сосуда с материалом противовесом 8 с помощью разновесов устанавливается равновесие весов и задается рабочая температура. С ростом температуры за счет теплового расширения меняется уровень материала в закрепленной под углом к коромыслу прямой трубке, что приводит к нарушению равновесия весов 1, которое восстанавливается изменением веса разновесов. Сняв показания весов на воздухе и при погружении тела в жидкость известной плотности, определяют плотность исследуемого материала по формуле (1):

(1)

где сM - плотность стекла (г/см3), г - постоянная сосуда, Рвm - вес тела в воздухе, Ржm - вес тела в жидкости, сж - плотность жидкости (г/см3).

Устройство позволяет определять плотности химически активных твердых, жидких и высоковязких материалов.

3. Зависимость плотности стекол и расплавов системы AsXS1-X от температуры

Плотность стекол и расплавов системы AsXS1-X изучена при температурах 300-950 К. Изучены составы As0,05S0,95, As0,25S0,75, As0,35S0,65, As0,45S0,55 и As0,50S0,50. Полученные значения плотности приведены в таблице 1 и на рисунке 4.

Таблица 1. Плотность с стекол и расплавов системы As-S в зависимости от температуры

Т, К

с, кг/м3*10-3

As0,05S0,95

As0,25S0,75

As0,35S0,65

As0,45S0,55

As0,50S0,50

300

2,04

2,70

3,02

3,25

3,30

400

1,99

2,66

2,98

3,23

3,27

500

1,90

2.58

2,93

3,19

3,23

600

1,82

2.47

2,85

3,11

3,15

700

1,70

2,38

2,78

3,04

3,07

800

-

2,29

2,71

2,97

3,00

900

-

2,20

2,63

2,90

2,94

Для всех изученных составов плотность стекол монотонно уменьшается (рис. 4).

Рис. 4. Плотность с стекол и расплавов системы As-S в зависимости от температуры

При переходе из стеклообразного в метастабильное жидкое состояние в области температуры стеклования наблюдается изменение угла наклона зависимости плотности. При этом по мере увеличения содержания мышьяка уменьшение плотности с температурой замедляется. Выше температуры размягчения угол наклона зависимости плотности от температуры возрастает в 3,4 раза по сравнению с твердым состоянием. Небольшая величина изменения плотности (приблизительно в 3-3,5 раза) и ее знак свидетельствуют, что при переходе стекла в жидкость не происходит значительных изменений ближнего порядка и ковалентная связь сохраняется.

Согласно данным работы [2] положение первого максимума кривой интенсивности рассеянных рентгеновских лучей расплавленного As2S3 совпадает с положением первой линии дебаеграммы аурипигмента. Второй максимум также соответствует группе интенсивных линий. Повышение содержания S в образцах приводит к уменьшению высоты максимумов и их смещению к положениям соответствующих максимумов кривой интенсивности жидкой серы. Это, по мнению автора работы [2], позволяет предположить сходство упаковок атомов As2S3 в кристаллическом и жидком состояниях. Расплавы As-S при содержании S более 60 мол.% имеют квазикристаллическую структуры ближнего порядка, элементами которой являются группировки атомов со структурой жидких As2S3 и S.

То, что плотности расплавов стекол составов As0,25S0,75 и As0,40S0,60 не зависят от температуры, говорит об их термической устойчивости. Действительно, Флашеном и Пирсоном [3] впервые было показано, что стабильные стекла в системе As-S получаются при содержании в них от 15 до 46 мол.% As.

4. Зависимость плотности стекол и расплавов системы AsXSe1-X от температуры

Плотность стеклообразных и жидких сплавов системы AsXSe1-X исследована в интервале температур 300-950 К. Изучены составы As0,05Se0,95, As0,25Se0,75, As0,35Se0,65, и As0,45Se0,55. При нагревании стекол и охлаждении расплавов с относительно низкой стеклообразующей способностью учитывали их критические скорости охлаждения и нагревания. Полученные значения плотности приведены в таблице 2 и на рисунке 5.

Таблица 2. Плотность с стекол и расплавов системы As-Se в зависимости от температуры

Т, К

As0,05Se0,95

As0,15Se0,85

As0,25Se0,75

As0,35Se0,65

As0,45S0,55

300

4,33

4,40

4,47

4,54

4,56

400

4,24

4,31

4,40

4,48

4,52

500

4,09

4,21

4,32

4,43

4,47

600

3,96

4,07

4,21

4,34

4,42

700

3,85

3,97

4,09

4,22

4,30

800

3,74

3,86

3,99

4,12

4,21

900

3,60

3,81

3,89

4,03

4,11

Как следует из анализа рис. 5, плотность стекол линейно уменьшается с увеличением температуры.

Рис. 5. Плотность с стекол и расплавов системы As-Se в зависимости от температуры

При переходе из стеклообразного в метастабильное жидкое состояние в области температуры стеклования наблюдается изменение угла наклона зависимости плотности от температуры.

Плотность расплавов также линейно уменьшается с температурой.

Анализ зависимостей плотности от температуры представленных на рис. 3.2 дает основание предположить, что при размягчении стекол системы AsXSe1-X их структурная сетка сохраняется, сохраняется ближний порядок и характер межатомного взаимодействия [2, 4, 5]

5. Зависимость плотности стекол и расплавов систем AsXS1-X от состава

Данные структурных исследований говорят о качественном соответствии в строении жидких и твердых систем. Поскольку диаграмма состояния системы отражает характер взаимодействия между компонентами, имеется достаточно четкая связь между ее типом и формой изотерм физико-химических свойств жидких сплавов.

Анализ работ, посвященных исследованию коэффициента термического расширения стекол и расплавов системы As-S показывает, что коэффициент термического расширения с увеличением содержания мышьяка уменьшается, а температура размягчения возрастает. Однако приведенные в них значения коэффициента термического расширения для одних и тех же составов значительно отличаются. Отличаются и рассчитанные на основании коэффициента термического расширения значения плотности. Так, например авторы работы [6] пришли к выводу о линейной зависимости коэффициента линейного термического расширения от состава сплавов. Авторы работы [6] пришли к выводу, что минимальным значением коэффициента термического расширения в стеклообразующей системе S - As4S4 обладает соединение As2S3.

В связи с этим прямым методом была измерена плотность стекол и расплавов As0,05S0,95, As0,25S0,75, As0,35S0,65, As0,45S0,55 и As0,50S0,50 и сопоставлена со значениями плотности, рассчитанными на основании коэффициента термического расширения. На рис. 6 приведена диаграмма состояния системы As-S [8], а на рис. 7 - изотермы плотности изученных сплавов.

Рис. 6. Диаграмма состояния системы As-S

Рис. 7. Изотермы плотности изученных сплавов в системе As-S

Максимальные положительные отклонения плотности лежат в области 40 мол.% As и дают основание предположить существование в расплавах и стеклах группировок атомов состава соединений As2S3.

6. Зависимость плотности стекол и расплавов системы AsXSе1-X от состава

Коэффициент объемного термического расширения и рассчитанные значения плотности стеклообразных и жидких сплавов системы AsX1-X представлены в работах [4, 9]

Однако измеренная прямым методом плотность известна лишь для жидкого селена. В связи с этим прямым методом была измерена плотность стекол и расплавов As0,050,95, As0,150,85, As0,250,75, As0,350,65, As0,400,60 и As0,450,55 и сопоставлена со значениями плотности, рассчитанными на основании коэффициента термического расширения.

На рис. 8 приведена диаграмма состояния системы As-Sе [8], а на рис. 9 изотермы плотности изученных сплавов.

Рис. 8. Диаграмма состояния системы As-Se.

Рис. 9. Изотермы плотности изученных сплавов в системе As-Se

Максимальные положительные отклонения плотности лежат в области 40 мол.% As и дают основание предположить существование в расплавах и стеклах группировок атомов состава соединений As23.

Выводы

1. Отработана методика синтеза оптически чистых халькогенидных стеклообразных полупроводников, методика непрерывного измерения плотности стекол и их расплавов в широком интервале температур. Проведены записи и статистическая обработка одиннадцати составов стекол и их расплавов в интервале 300-950 К.

2. Установлено, что для стекол и расплавов AsXS1-X и AsX1-X с преимущественно цепочечным строением характерны низкие значения плотности.

3. Показано, что составам соединений As2S3 и As23, известных из диаграмм состояния, на изотермах плотности стекол и расплавов систем AsXS1-X и AsX1-X соответствуют максимальные положительные отклонения от аддитивности.

Список использованных источников

1. Ананичев В.А. Объемная дилатометрия халькогенидных стеклообразных материалов. - СПб.: Изд-во Политехн. ун-та, 2007. - 166 с.

2. Полтавцев Ю.Г. Структура полупроводниковых расплавов. - М.: Металлургия. 1984. - 176 с.

3. Flaschen S.S., Pearson A.D., Northover W.R. Law-Melting inorganic glasses with high melt fluidities below 4000C. // J. Amer. Ceram. Soc. - 1959. - V.42. No.9. - р. 450-451.

4. Воронова А.Е., Ананичев В.А., Блинов Л.Н. О термическом расширении расплавов и стекол системы As-Se // Физ. и хим. стекла. - 2001. - Т.27. №.3. - с. 400-408.

5. Ананичев В.А. Коэффициент термического расширения и плотность стеклообразующих сплавов As2S3-Tl2S, As2Se3-Tl2Se, As2Te3-Tl2Te // Тез. докл. Конф. «Строение и природа металлических и неметаллических стекол». Ижевск. - 1987. - с. 61-62.

6. Tanaka M., Munami T., Hattory M. Thermal expansion and its related properties of arsenic-sulfur glasses // J. Appl. Phys, Japan. - 1966. - V.5. N2. - р. 185-186.

7. Новоселова Н.А., Новоселов С.К., Байдаков Л.А. Термические свойства стеклообразных сульфидов мышьяка. // ЖПХ. - 1971. - Т.XLIV. №11. - с. 2548-2550.

8. Виноградова Г.З. Стеклообразование и фазовые равновесия в халькогенидных системах. - М.: Наука. 1984. - 175 с.

9. Воронова А.Е., Ананичев В.А., Блинов Л.Н. Исследование взаимодействие между компонентами в расплавах системы As-Se дилатометрическим методом // Матер. IV Всероссийской научно-методической конференции. СПб.: - 2000. - с. 105-106.

Размещено на Allbest.ru


Подобные документы

  • Краткая характеристика систем ZrF4-BaF2. Физико-химическое обоснование стабилизации стекол путем усложнения химического состава. Методика синтеза образцов системы ZrF4-BaF2-FeF3. Методы определения плотности твердых тел, гидростатическое взвешивание.

    курсовая работа [112,8 K], добавлен 30.10.2014

  • Виды и единицы измерения плотности. Разновидности плотности для сыпучих и пористых тел. Основные достоинства пикнометрического метода определения плотности. Области использования бура Качинского. Виды вязкости и приборы, используемые для ее определения.

    реферат [313,2 K], добавлен 06.06.2014

  • Определения плотности органических соединений методом прогнозирования плотности индивидуальных веществ. Фазовое состояние вещества и вычисление плотности насыщенной жидкости. Расчет давления насыщенного пара, вязкости и теплопроводности вещества.

    курсовая работа [363,6 K], добавлен 21.02.2009

  • Понятие прогнозирования. Прогнозирование критического объема и ацентричного фактора, плотности газа, жидкости и плотности индивидуальных веществ с использованием коэффициента сжимаемости. А также плотности жидкости и пара с использованием уравнений.

    реферат [88,5 K], добавлен 21.01.2009

  • Анализ механизма и этапов синтеза кремнеземного наполнителя - белой сажи на основе различных жидких стекол для дальнейшего применения в резинотехнической промышленности. Сравнительная характеристика силикатных модулей натриевого и калиевого жидких стекол.

    статья [150,0 K], добавлен 16.03.2016

  • Особенности получения коллоидных систем. Теоретический анализ процессов формирования кварцевых стекол золь-гель методом. Получение золь-коллоидных систем по "гибридному" методу. Характеристика свойств квантовых стекол, активированных ионами европия.

    курсовая работа [1,1 M], добавлен 14.02.2010

  • Этапы изучения процессов горения и взрывов. Основные виды взрывов, их классификация по типу химических реакций и плотности вещества. Реакции разложения, окислительно-восстановительные, полимеризации, изомеризации и конденсации, смесей в основе взрывов.

    реферат [99,8 K], добавлен 06.06.2011

  • Развитие алюминиевой промышленности. Основы электролиза криолитоглиноземных расплавов. Альтернативные способы получения алюминия. Электротермическое получение алюминиево-кремниевых сплавов. Субгалогенидный процесс. Электролиз хлоридных расплавов.

    реферат [1,6 M], добавлен 15.08.2008

  • Рассмотрение задач построения фазовой диаграммы системы "перхлорат лития-вода" и определения зависимости плотности и вязкости этой системы от концентраций компонентов. Практические навыки работы с жидкостным криостатом и капиллярным вискозиметром.

    отчет по практике [322,4 K], добавлен 17.05.2016

  • Структура фотонних кристалів та стекол. Методи отримання фотонних структур. Методика синтезу та обробки штучних опалів. Розрахунок хімічної реакції для синтезу фотонних структур. Оптимізація параметрів росту фотонних кристалів та підготовка зразків.

    дипломная работа [2,6 M], добавлен 23.09.2012

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу.