Применение нанокластеров в оптоэлектронике. Фотоприемники и солнечные элементы

Нанокластеры и их энергетическое состояние. Влияние нанокластеров на свойства полупроводниковых материалов. "Захороненные" барьеры Шоттки. Формирование ансамблей боросиликатных нанокластеров в кремниевой матрице. Применение электронной оже-спектроскопии.

Рубрика Коммуникации, связь, цифровые приборы и радиоэлектроника
Вид дипломная работа
Язык русский
Дата добавления 06.12.2015
Размер файла 5,2 M

Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже

Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.

17,59

Таблица 2

Значения интенсивности, падающей на образец, легированный бором и кислородом

л, нм

I0, от.ед.

IП, от.ед.

500

616,8

24,74

515

740,1

27,98

529

826,5

29,61

544

863,5

29,26

559

986,8

31,66

574

1048,6

31,91

588

1110,2

32,20

603

1245,9

34,36

618

1394,0

36,60

632

1554,3

39,02

647

1702,3

40,77

662

1764,4

40,37

676

1825,9

40,06

691

1949,0

40,93

695

1986,0

41,23

706

2035,6

40,95

721

2121,9

40,93

735

2195,7

40,75

750

2282,2

40,68

765

2368,8

40,58

779

2454,9

40,56

790

2435,6

39,13

л, нм

I0, от.ед.

IП, от.ед.

803

2468,4

38,38

814

2488,1

37,65

824

2529,0

37,35

842

2548,3

36,04

851

2557,5

35,41

868

2590,9

34,48

884

2583,1

33,14

893

2584,7

32,50

904

2589,2

31,77

913

2590,1

31,16

917

2600,0

31,00

926

2627,6

30,72

943

2619,1

29,53

965

2622,1

28,23

985

2619,6

27,07

1004

2602,2

25,88

1026

2588,4

24,65

1044

2578,3

23,72

1074

2528,9

21,98

1086

2517,5

21,40

1097

2497,4

20,81

1101

2477,3

20,49

1103

2479,6

20,44

1132

2430,2

19,02

1147

2393,3

18,24

1160

2361,0

17,59

- длина волны;

I0 - интенсивность лампы накаливания;

IП - интенсивность, падающая на образец.

Приложение В

Таблица 3

Значения вентильной фотоэдс для контрольного образца

, нм

Uf, мкВ

Uf', мкВ

Uf'', мкВ

462

38,8

38,80

66,74

471

54,1

48,23

82,96

485

79,8

60,70

104,41

500

111,4

73,85

127,03

515

147,3

86,34

148,51

529

183,7

101,74

174,98

544

239,3

134,14

230,73

559

296,7

153,68

264,32

574

347,9

178,80

307,53

603

454

216,72

372,76

618

500,2

224,16

385,55

632

542,8

228,16

392,43

647

588,9

236,87

407,41

662

631,5

256,56

441,28

676

655,5

268,34

461,54

691

670,1

268,52

461,85

706

676,6

270,98

466,09

721

678

271,69

467,30

735

664,1

267,26

459,68

750

637,3

256,92

441,91

765

608,5

245,89

422,94

779

572,1

231,32

397,86

803

514,2

219,70

377,89

814

492,3

214,44

368,83

824

475,2

208,68

358,92

842

480,1

218,47

375,77

851

512,8

237,51

408,52

868

576,4

274,16

471,55

884

657,6

325,40

559,69

893

711,1

358,85

617,22

904

779,6

402,47

692,25

913

839,2

441,75

759,82

917

870,3

460,39

791,87

926

905,3

483,22

831,14

943

965,6

536,24

922,33

, нм

Uf, мкВ

Uf', мкВ

Uf'', мкВ

965

1000

580,89

999,14

985

973,3

589,62

1014,15

1004

877

555,67

955,75

1026

746,2

496,37

853,76

1044,1

586,1

405,26

697,04

1074

315,8

235,60

405,24

1086

248,8

190,65

327,91

1097

201,5

158,81

273,16

1101

183

146,47

251,92

1103

171,5

137,63

236,73

1132

77,8

67,10

115,41

1147

45,1

40,55

69,75

1160

24,6

22,93

39,44

Таблица 4

Значения вентильной фотоэдс для образца, легированного бором и кислородом

, нм

Uf, мкВ

Uf', мкВ

Uf'', мкВ

500

80,2

80,21

102,67

515

132,1

116,81

149,52

529

214,8

179,45

229,70

544

356,9

301,81

386,32

559

497,1

388,41

497,16

574

670,5

519,83

665,38

588

825,2

634,11

811,66

603

973,3

700,89

897,13

618

1125,2

760,66

973,65

632

1263,3

801,04

1025,33

647

1447,3

878,17

1124,06

662

1610,7

987,15

1263,55

676

1728,1

1067,17

1365,98

691

1797,4

1086,52

1390,74

695

1804,9

1083,16

1386,44

706

1772,4

1070,84

1370,68

721

1695,2

1024,74

1311,67

735

1590,1

965,33

1235,62

750

1493,1

908,04

1162,29

765

1318,8

803,93

1029,04

779

1211,9

739,19

946,16

790

1097,2

693,72

887,96

, нм

Uf, мкВ

Uf', мкВ

Uf'', мкВ

803

1032,1

665,25

851,52

814

972,1

638,76

817,62

824

902,9

598,13

765,60

842

880,7

604,57

773,85

851

900,5

629,18

805,35

868

960

688,82

881,69

884

1015,4

757,96

970,19

893

1061,3

807,94

1034,16

904

1101,2

857,60

1097,73

913

1097,6

871,60

1115,64

917

1095,3

874,07

1118,81

926

1066,5

858,76

1099,21

943

979,1

820,25

1049,92

965

812,3

711,82

911,13

985

613,2

560,38

717,29

1004

406

388,06

496,72

1026

287,3

288,30

369,02

1044

205,6

214,46

274,50

1074

136,5

153,62

196,64

1086

117,1

135,36

173,26

1097

107,4

127,70

163,45

1101

100,1

120,86

154,70

1103

95,6

115,74

148,14

1132

60,1

78,19

100,09

1147

42,1

57,10

73,09

1160

23,9

33,61

43,02

- длина волны;

Uf - экспериментальное значение вентильной фотоэдс;

Uf' - значение вентильной фотоэдс с учетом спектральной характеристики приборной функции монохроматора;

Uf'' - значение вентильной фотоэдс после амплитудной нормировки.

Размещено на Allbest.ru


Подобные документы

  • Роль полупроводников в микро- и оптоэлектронике. Классификация полупроводниковых материалов. Диапазон электрических параметров различных полупроводников. Особые физико-химические свойства кремния. Применение германия в полупроводниковых приборах.

    контрольная работа [1,0 M], добавлен 15.12.2015

  • Электрофизические свойства полупроводниковых материалов, их применение для изготовления полупроводниковых приборов и устройств микроэлектроники. Основы зонной теории твердого тела. Энергетические зоны полупроводников. Физические основы наноэлектроники.

    курсовая работа [3,1 M], добавлен 28.03.2016

  • Топология и элементы МОП-транзистора с диодом Шоттки. Последовательность технологических операций его производства. Разработка технологического процесса изготовления полупроводниковых интегральных схем. Характеристика используемых материалов и реактивов.

    курсовая работа [666,0 K], добавлен 06.12.2012

  • Сущность и задачи литографии. Описание процесса создания рисунка с использованием фотолитографии на кремниевой подложке. Исследование режимов технологического процесса ионного легирования в кремниевой технологии при помощи компьютерных программ.

    реферат [23,9 K], добавлен 01.02.2016

  • Принцип действия полупроводниковых диодов, свойства p-n перехода, диффузия и образование запирающего слоя. Применение диодов в качестве выпрямителей тока, свойства и применение транзисторов. Классификация и технология изготовления интегральных микросхем.

    презентация [352,8 K], добавлен 29.05.2010

  • Преимущества диодов Шоттки по сравнению с обычными p-n-переходами. Основные стадии формирования структуры кремниевого диода. Классификация типов обработки поверхности полупроводниковых пластин. Особенности жидкостного травления функциональных слоев.

    реферат [237,4 K], добавлен 20.12.2013

  • Рассмотрение принципов работы полупроводников, биполярных и полевых транзисторов, полупроводниковых и туннельных диодов, стабилитронов, варикапов, варисторов, оптронов, тиристоров, фототиристоров, терморезисторов, полупроводниковых светодиодов.

    реферат [72,5 K], добавлен 14.03.2010

  • Виды и обозначение диодов. Основные параметры выпрямительных диодов. Диоды Шоттки в системных блоках питания, характеристики, особенности применения и методы проверки. Проявление неисправностей диодов Шоттки, их достоинства. Оценка возможности отказа.

    курсовая работа [52,6 K], добавлен 14.05.2012

  • Главные этапы исторического развития современной радиоэлектроники. Широкое применение электронной вычислительной техники. Интеграция активных и пассивных элементов систем и устройств радиоэлектроники. Примечательные свойства радиоэлектронных средств.

    реферат [30,5 K], добавлен 14.02.2016

  • Физические элементы полупроводниковых приборов. Электрический переход. Резкий переход. Плоскостной переход. Диффузионный переход. Планарный переход. Явления в полупроводниковых приборах. Виды полупроводниковых приборов. Элементы конструкции.

    реферат [17,9 K], добавлен 14.02.2003

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу.